凯特莱环保/临沂净化厂房/临沂净化厂房国家标准

    洁净室中的温湿度控制。
    洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。相对湿度**过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高，粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产较佳湿度范围为35—45%。
     净化厂房建筑设计具有很强的综合性，通常它设计则着重为了净化而去解决各项洁净技术专业分类在应用工程中的统筹安排，以获得较优化综合效果的空间。因此，这种厂房在建设时，就要严格按照以下的规定来进行建设。
      1）厂房的建筑平面和空间布局，应具有适当的灵活性。
      2）厂房的主体结构不宜采用内墙承重。而且高度以净高控制，净高应以100mm为基本模数。
      3）厂房主体结构的耐久性与室内装备和装修水平相协调，并应具有防火、控制温度变形和不均匀沉陷的性能（地震区应符合抗震设计规定）。
      4）厂房变形缝应避免穿过洁净区。送、回风管和其他管线需暗敷时，应设置技术夹层、技术夹道或地沟等。
      5）穿越较层的竖向管线需暗敷时，宜设置技术竖井。
      6）对兼有一般生产和洁净生产的综合性厂房，其方案设计和构造的处理，应避免在人流与物流运输以及防火方面对洁净生产带来不利影响。
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